ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်စုပ်ယူမှု Uv-360 Bisoctrizole Cas 103597-45-1

ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်စုပ်ယူနိုင်သော Uv-360 Bisoctrizole Cas 103597-45-1 အထူးအသားပေးပုံ

CAS:၁၀၃၅၉၇-၄၅-၁

မော်လီကျူးဖော်မြူလာ-C41H50N6O2

မော်လီကျူးအလေးချိန်၆၅၈.၈၇

EINECS-၄၀၃-၈၀၀-၁

ထပ်တူထပ်မျှများ-2,2-methylenebis(6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,;Methylenebisbenzotriazolyltertoctylphenol]; UV-360; 2,2'-Methylenebis[2-hydroxy-5-(1,1,3) ၊3-tetramethylbutyl)-1,3-phenylene]bis(2H-benzotriazole); BIS[3-(BENZOTRIAZOL-2-YL)-2-HYDROXY-5-TERT-OCTYLPHENYL]မီသနီ၊ မက်သလင်းနက်ဘစ်-ဘန်ဇိုထရီဇယ်လ်၊ '-Methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethyl)phenol]ဖြေရှင်းချက်၊100ppm; 2,2'-METHYLENEBIS(6-(2H-BENZOTRIAZOL-2) -YL)-4-(1,1,3,3TETRAMETHYLBUTYL)PHENOL)99

သင့်မက်ဆေ့ခ်ျကို ချန်ထားပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ဒေါင်းလုဒ်လုပ်ပါ။

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

Ultraviolet Absorbent Uv-360 Bisoctrizole Cas 103597-45-1 ဆိုတာ ဘာလဲ

2,2' - methylene bis [4-tert-octyl-6 - (2H-benzotriazoly-2)] phenol သည် benzotriazole အမျိုးအစား UV စုပ်ယူနိုင်သော အမျိုးအစားတစ်ခုဖြစ်သည်။အမျိုးမျိုးသော ဓာတုပစ္စည်းများနှင့် ထုတ်ကုန်များတွင် အထူးသဖြင့် မော်တော်ယာဥ်အပေါ်ယံပိုင်းများတွင် အသုံးများပြီး အသုံးအများဆုံးနှင့် ထိရောက်မှုရှိသော ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်စုပ်စုပ်ကိရိယာဖြစ်သည်။

သတ်မှတ်ချက်

ထုတ်ကုန်အမည်:	ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်စုပ်ယူနိုင်သော UV-360	Batch No.	JL20220524
Cas	၁၀၃၅၉၇-၄၅-၁	MF နေ့စွဲ	မေ။၂၄၊ ၂၀၂၂
ထုပ်ပိုးခြင်း။	25KGS/ကတ်တွန်	စိစစ်သည့်နေ့စွဲ	မေ။၂၄၊ ၂၀၂၂
အရေအတွက်	1MT	သက်တမ်းကုန်ဆုံးရက်	မေ။၂၃၊ ၂၀၂၄
ITEM	စံ		ရလဒ်
အသွင်အပြင်	အဝါဖျော့ဖျော့မှုန့်		လိုက်လျောညီထွေ
ပို့လွှတ်မှု(%)	500nm ≥98		၉၈.၂၀
ပို့လွှတ်မှု(%)	460nm ≥97		၉၇၊၂၀
အရည်ပျော်မှတ် (℃)	၁၉၃-၁၉၈		၁၉၅.၃
ပြာ(%)	≤0.1		၀.၀၂၇
မတည်ငြိမ်သော(%)	≤0.3		၀.၂၃
HPLC(%)	≥98.0		၉၉.၀၇
နိဂုံး	အရည်အချင်းပြည့်မီသည်။

လျှောက်လွှာ

1. ၎င်းကို အခြားသော အလင်းတည်ငြိမ်ဆေးများ သို့မဟုတ် ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်ပစ္စည်းများနှင့် တွဲသုံးနိုင်ပြီး၊ acrylate၊ polyester၊ polycarbonate၊ polyoxymethylene၊ polyamide၊ polyolefin၊ styrene polymer၊ elastomer၊ adhesive စသည်ဖြင့် အသုံးပြုနိုင်သည်
2. ၎င်းကို အမှုန့်၊ ဖြေရှင်းချက် သို့မဟုတ် အရည်ပျော်အောင် ထုတ်ယူခြင်းဖြင့် ဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။
3. ၎င်းသည် crystal စိမ့်ထွက်ခြင်းနှင့် sublimation ကိုကာကွယ်ပေးနိုင်သည်။
4. ၎င်းကို ဖိုက်ဘာ၊ စက္ကူနှင့် ပုံသွင်းခြင်းနှင့် ပါးလွှာသော အလွှာတည်ဆောက်မှုများအတွက်လည်း အသုံးပြုနိုင်သည်။